legura tantala - 111

Baoji Yusheng Metal uglavnom proizvodi volfram, molibden, tantal, niobij, cirkonijum, krom, titan, nikal, vanadijum, kobalt, hafnij i njihove legure u obliku ploča, listova, traka, folija, šipki, žica, cijevi i drugih konvencionalnih procesa profili, kao i čamci, lončići, mete za prskanje, mete za premazivanje, obrađeni dijelovi, visokotemperaturni izolacijski zasloni peći, grijači, tijela peći (peći za grijanje, peći za žarenje), oprema otporna na koroziju i drugi duboko obrađeni proizvodi. Proizvodi se uglavnom koriste u oblastima peći sa safirnim kristalom, vakuumske peći, peći za monokristalni silicijum, implantacije poluprovodničkih jona, brizganja metalnog praha, vakuumskog premaza, peći na visokim temperaturama, staklenih vlakana, metalurgije, petrohemije, vazduhoplovstva, farmacije, opreme, prehrambena, pomorska, automobilska, građevinska, industrijska keramika, inženjering zaštite životne sredine i druge industrije. Naši proizvodi se prodaju širom svijeta, uključujući Sjedinjene Države, Japan, Njemačku, Australiju, Kanadu, jugoistočnu Aziju i druge regije.

Efekti sastava legure na smanjenje problema s krhkošću u leguri tantala T-111

Istraženi su osnovni uzroci krhkosti tantalove legure - 111 i utjecaj promjene legure. Rezultati otkrivaju da T-111 ima ključni omjer volframa i hafnijuma koji uzrokuje smanjenje duktilnosti na -196 C nakon starenja na temperaturama od oko 1040 C. Otkriveno je da se to dešava jer volfram potiče segregaciju hafnijuma do granica zrna, što povećava osjetljivost na vodoničnu krtost. Legure tantala sa nižim koncentracijama volframa ili hafnija nisu pokazivale krtost starenjem; ipak, većina legura koje se proučavaju imaju nižu čvrstoću od T-111 i podložne su vodoničnom krtosti.

Na 820 i 990 C, kiseonik se dovodio pod pritiskom od oko.0003 tora. Metoda je omogućila predvidljivo i ponovljivo dopiranje legure tantala kisikom. (T-111). Prema temperaturnoj zavisnosti reakcije dopinga, rastvor kiseonika u T-111 rešetki je najverovatnije ono što reguliše prve brzine uzimanja kiseonika. Tantal i volfram oksidi prevladavaju u dopiranim uzorcima, vjerovatno zbog veće količine tantala i volframa u leguri, uprkos činjenici da su oksidi hafnija stabilniji od onih od tantala ili volframa. Međutim, žarenje na visokim temperaturama potiče stvaranje hafnijevih oksida potičući oksidaciju drugih oksida i otopljenog kisika.