Metalna metaOsnove prskanja
Cilj je jednostavno korištenje elektrona ili visokoenergetsko lasersko bombardiranje za nanošenje premaza. Konačno, površinske komponente se talože na površinu supstrata nakon što su raspršene kao atomske grupe ili joni, prolazeći kroz proces formiranja filma i stvarajući tanak film.
Premazi za raspršivanje dolaze u širokom rasponu varijanti. Oni su obično premaz za isparavanje. Brzina raspršivanja će biti jedan od ključnih parametara, što je razlika. Laserski premaz pld u premazu za raspršivanje je jednostavan za održavanje ujednačenog sastava, ali je ujednačenost debljine na atomskoj skali relativno loša (jer to je pulsno raspršivanje) i kontrola rasta orijentacije kristala (spoljne ivice) je relativno opšta.
Stupanj podudarnosti rešetke između podloge i ciljanog materijala, okruženje premaza (gasna atmosfera niskog pritiska), temperatura podloge, snaga lasera, frekvencija impulsa i vrijeme raspršivanja važni su parametri u pld, kao primjer . Idealni parametri su potrebni za različite podloge i materijale za raspršivanje. Oni su različiti, prema eksperimentima. Sposobnost opreme za premazivanje da precizno upravlja temperaturom, osigura dobar vakuum i održava čistu vakuumsku komoru tri su ključna faktora koja određuju njen kvalitet.
